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產品詳情
簡單介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統
HCT ITC 吸入毒性暴露系統由美盛科技中國公司供應
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。
詳情介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統
HCT ITC 吸入毒性暴露系統由美盛科技中國公司供應
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。


產品描述·技術參數:
環境條件 溫度 0 ~ 50℃
濕度 0 ~ 100%RH
檢測粒子 NIST可追溯性粒子
粒子發生器 范圍 5nm ~ 100μm
濃度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
產生粒子的標準差 >1.05
類型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,Fe2O3,煙灰,CNT(碳納米),power等
可產生單分散或多分散氣溶膠
氣溶膠旋風分離器 5μm
符合ISO 10801要求
粒子監測系統 范圍 5 ~ 1 000nm(2.5nm可選)
*大濃度 108P/cm3
掃描時間 90s(可更改)
采樣流速 0 ~ 1.5lpm
工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
數據采集 PC,320×240分辨率觸摸LCD屏
掃描納米粒徑譜儀(SNPS系統)
OPC(光學計數器) 0.3 ~ 10μm
符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器 稀釋比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量計 0 ~ 50L/min,質量流量控制器
排氣流量 0 ~ 500L/min,排風扇和自動控制閥控制
干凈空氣供應 HEPA過濾系統,除塵效率 0.3μm時可達99.97%
控制和監測系統 環境監測 溫度、濕度、壓力、空氣流量計、O2
濃度和粒徑分布
暴露條件狀況
互相監測,水沖洗監測等
粒子產生、稀釋比例、流量控制
質量流量控制器
補充空氣閥和暴露空氣閥控制
HCT ITC 吸入毒性暴露系統由美盛科技中國公司供應
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。

ITC系統配置
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。

ITC吸入毒性暴露系統有整體暴露系統(WITC)和鼻部暴露(NITC)系統兩種暴露配置方式。
WITC(整體暴露系統)

NITC(鼻部暴露系統)


組件介紹
顆粒物發生器
有旋風和各式各樣的顆粒物發生器,可選擇所需的粒徑范圍(nm ~ μm)并輸送到暴露室內。有金屬和液體氣溶膠發生器等多種類型。
染毒室
環境傳感器
溫度:工作范圍 -20℃ ~ 70℃,精度 ±0.5℃
濕度:工作范圍 10 ~ 90 %,精度 ±3 %
O2傳感器:工作范圍 0 ~ 25 %,精度 ±0.5 %
CO2:工作范圍 0 ~ 5000ppm,精度 ±0.5 %
特殊傳感器:CO、NO、VOCs等可選
監測程序
HCT吸入系統染毒室控制軟件(ITC管理器),可控制單個或多個染毒室。
模塊式控制箱 – 易安裝和布置
實時數據獲取和顯示
用戶自主選擇 – 參數設置(數據采集、檢測參數值等)
ADS(氣溶膠稀釋系統)
稀釋因子:~ 100(可依客戶需求調節)
稀釋因子精度:通常±10%,*大值的±15%
數據傳輸:RS-422
電源:100 ~ 240V,60Hz

反應氣體裝置

沖洗裝置

排氣裝置

產品描述·技術參數:
環境條件 溫度 0 ~ 50℃
濕度 0 ~ 100%RH
檢測粒子 NIST可追溯性粒子
粒子發生器 范圍 5nm ~ 100μm
濃度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
產生粒子的標準差 >1.05
類型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,Fe2O3,煙灰,CNT(碳納米),power等
可產生單分散或多分散氣溶膠
氣溶膠旋風分離器 5μm
符合ISO 10801要求
粒子監測系統 范圍 5 ~ 1 000nm(2.5nm可選)
*大濃度 108P/cm3
掃描時間 90s(可更改)
采樣流速 0 ~ 1.5lpm
工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
數據采集 PC,320×240分辨率觸摸LCD屏
掃描納米粒徑譜儀(SNPS系統)
OPC(光學計數器) 0.3 ~ 10μm
符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器 稀釋比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量計 0 ~ 50L/min,質量流量控制器
排氣流量 0 ~ 500L/min,排風扇和自動控制閥控制
干凈空氣供應 HEPA過濾系統,除塵效率 0.3μm時可達99.97%
控制和監測系統 環境監測 溫度、濕度、壓力、空氣流量計、O2
濃度和粒徑分布
暴露條件狀況
互相監測,水沖洗監測等
粒子產生、稀釋比例、流量控制
質量流量控制器
補充空氣閥和暴露空氣閥控制