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產品詳情
  • 產品名稱:HCT ITC 吸入毒性暴露系統

  • 產品型號:
  • 產品廠商:其它品牌
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簡單介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統 HCT ITC 吸入毒性暴露系統由美盛科技中國公司供應 系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。
詳情介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統
HCT ITC 吸入毒性暴露系統由美盛科技中國公司供應
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 10801,10808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。



ITC系統配置
系統包括:納米顆粒物產生/監測系統(ISO 1080110808),自動遠程控制/監測系統,自動清洗裝置(WITC),**檢測物質分散系統;系統都符合GLPREACHGHSOECD要求。
 
ITC吸入毒性暴露系統有整體暴露系統(WITC)和鼻部暴露(NITC)系統兩種暴露配置方式。
WITC(整體暴露系統)
 
NITC(鼻部暴露系統)
 
組件介紹
粒物發生器
有旋風和各式各樣的顆粒物發生器,可選擇所需的粒徑范圍(nm ~ μm)并輸送到暴露室內。有金屬和液體氣溶膠發生器等多種類型。
 
染毒室
 
       環境傳感器
溫度:工作范圍 -20℃ ~ 70℃,精度 ±0.5℃
濕度:工作范圍 10 ~ 90 %,精度 ±3 %
O2傳感器:工作范圍 0 ~ 25 %,精度 ±0.5 %
CO2:工作范圍 0 ~ 5000ppm,精度 ±0.5 %
特殊傳感器:CO、NO、VOCs等可選
監測程序
 
HCT吸入系統染毒室控制軟件(ITC管理器),可控制單個或多個染毒室。
模塊式控制箱 易安裝和布置
實時數據獲取和顯示
    用戶自主選擇參數設置(數據采集、檢測參數值等)
ADS(氣溶膠稀釋系統)
 
稀釋因子:~ 100(可依客戶需求調節)
稀釋因子精度:通常±10%,*大值的±15%
數據傳輸:RS-422
    電源:100 ~ 240V60Hz
 
反應氣體裝置
沖洗裝置
排氣裝置


產品描述·技術參數:

環境條件              溫度 0 ~ 50℃
                      濕度 0 ~ 100%RH
檢測粒子              NIST可追溯性粒子
粒子發生器       范圍 5nm ~ 100μm
                      濃度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
                      產生粒子的標準差 >1.05
                      類型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,Fe2O3,煙灰,CNT(碳納米),power等
                      可產生單分散或多分散氣溶膠
                      氣溶膠旋風分離器 5μm
                      符合ISO 10801要求
粒子監測系統        范圍 5 ~ 1 000nm(2.5nm可選)
                        *大濃度 108P/cm3
                        掃描時間 90s(可更改)
                        采樣流速 0 ~ 1.5lpm
                        工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
                        數據采集 PC,320×240分辨率觸摸LCD屏
                        掃描納米粒徑譜儀(SNPS系統)
                        OPC(光學計數器) 0.3 ~ 10μm
                        符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器        稀釋比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量計         0 ~ 50L/min,質量流量控制器
排氣流量                0 ~ 500L/min,排風扇和自動控制閥控制
干凈空氣供應        HEPA過濾系統,除塵效率 0.3μm時可達99.97%
控制和監測系統        環境監測 溫度、濕度、壓力、空氣流量計、O2
                        濃度和粒徑分布
                        暴露條件狀況
                        互相監測,水沖洗監測等
                        粒子產生、稀釋比例、流量控制
                        質量流量控制器
                        補充空氣閥和暴露空氣閥控制
 
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